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2019屆高功率脈沖磁控濺射沉積薄膜技術與應用專題會議

來源:  未知   作者:  管理員   時間:  2019-08-01  點擊:   1549 次

    

    2019728~30日,“2019屆高功率脈沖磁控濺射沉積薄膜技術與應用專題會議”在蘭州召開,通過會議交流、深入討論及與國際知名企業對接,推動我國高功率脈沖磁控濺射沉積薄膜技術的發展。會議結束后,參會代表來蘭州華匯儀器科技有限公司參觀交流,針對實驗室儀器設備我司人員為各位代表進行詳細的講解。


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